发明名称 |
一种微米级线宽的柔性铜电极图形的制备方法 |
摘要 |
本发明属于微电子材料领域,涉及一种微米级线宽的柔性铜电极图形的制备方法。本发明提出的制备方法是一种“全加成”法,即金属铜只沉积在塑料基板上预定的位置。具体工艺包括塑料基板洗净、烘干、表面改性、光掩膜下紫外照射、选择性催化活化以及化学镀铜等。本发明制备的柔性铜电极图形具有以下优点:(1)电极图形的精度由光掩摸决定,可达线宽微米级;(2)工艺过程大多在溶液中进行,无需大型仪器设备及超净间的苛刻环境,适合低成本、规模化生产;(3)电极图形与塑料基板的结合力牢,可容忍多次反复折叠,使用寿命长,可靠性高;(4)铜电极图形的导电性好,有利于降低使用过程中的能耗。本发明制备的柔性铜电极图形可广泛用于柔性晶体管、柔性太阳能电池、柔性发光器件等工业领域。 |
申请公布号 |
CN102400115B |
申请公布日期 |
2014.04.02 |
申请号 |
CN201110323963.1 |
申请日期 |
2011.10.20 |
申请人 |
复旦大学 |
发明人 |
吕银祥;薛龙龙;粱倩 |
分类号 |
C23C18/06(2006.01)I;C23C18/38(2006.01)I;C23C18/30(2006.01)I;C23C18/20(2006.01)I |
主分类号 |
C23C18/06(2006.01)I |
代理机构 |
上海正旦专利代理有限公司 31200 |
代理人 |
张磊 |
主权项 |
一种微米级线宽的柔性铜电极图形的制备方法,其特征在于:1)清洁基板:将柔性塑料基板洗净、烘干;2)基板表面改性:将清洁后的塑料基板浸泡在改性溶液中2~4小时,取出洗净,烘干;3)紫外光照射:将改性后的塑料基板覆盖在光掩膜下,用紫外光照射10~30分钟;4)催化活化:将照射后的塑料基板至于催化活化溶液中8~12小时,取出洗净,烘干;5)化学镀铜:将活化后的塑料基板浸泡在铜化学镀液中,于15~25℃化学镀20~30分钟,取出洗净,烘干,制得微米级线宽的柔性铜电极图形;其中,改性溶液的溶质为3‑巯基丙基三甲氧基硅烷、3‑氨基丙基三甲氧基硅烷、3‑巯基丙基三乙氧基硅烷、3‑氨基丙基三乙氧基硅烷中的任意一种;溶剂为甲醇、乙醇、异丙醇或丙酮中的任意一种;改性溶液的质量浓度为0.01%~5%;催化活化溶液的配方是溶剂为去离子水,溶液中各种溶质浓度分别为:氯化钯浓度0.1~1g/L;盐酸浓度1~5g/L;柠檬酸三钠浓度1~5g/L;硼氢化钾浓度0.5~1g/L;铜化学镀液的配方是溶剂为去离子水,溶液中各种溶质浓度分别为:硫酸铜浓度7~10g/L;酒石酸钠钾30~40g/L;氢氧化钠浓度4~6g/L;碳酸钠浓度2~3g/L;氯化镍浓度1~2g/L;甲醛浓度5~8g/L。 |
地址 |
200433 上海市邯郸路220号 |