Verfahren zur Herstellung eines scheibenförmigen Werkstückes auf der Basis eines dielektrischen Substrates sowie Vakuumbehandlungsanlage hierfür.

摘要

Ein dielektrisches Substrat (100) wird an einer ersten Vakuumbeschichtungsstation (102) beschichtet mit einer Schicht, deren Material einen spezifischen Widerstandρhat, für den gilt 10–5Ωcm≤ρ≤10–1Ωcm, und zwar so, dass der resultierende Flächenwiderstand R s in folgendem Bereich liegt: 0 < R s≤10–4Ω. Danach wird das beschichtete dielektrische Substrat (104) einem reaktiven Hochfrequenzplasma-Behandlungsschritt in einer Station (105) unterzogen.