| 摘要 |
1. Способ нагрева подложки (20) и немедленного последующего нанесения покрытия на подложку в вакуумной камере, содержащий следующие этапы:(a) размещение подложки (20) на подложкодержателе (24) таким образом, чтобы нижняя поверхность (21а) подложки контактировала с подложкодержателем поверхность к поверхности,(b) подъем подложки (20) на расстояние d относительно подложкодержателя,(c) нагрев поднятой подложки через ее верхнюю поверхность (21b) с помощью нагревательного устройства (22),(d) немедленное последующее нанесение покрытия на горячую подложку и(e) опускание подложки на подложкодержатель (24) и охлаждение подложки.2. Способ по п.1, в котором на охлажденную подложку наносят покрытие.3. Способ по п.1, в котором нагревательным устройством (22) управляют с помощью температурного датчика (26, 28) для определения температуры подложки и с помощью регулятора температуры для установки заданной температуры.4. Способ по пп.1, 2 или 3, в котором этап (d) содержит немедленное перемещение нагретой подложки вместе с подложкодержателем (24) в положение нанесения покрытия и нанесение покрытия на подложку.5. Способ по пп.1, 2 или 3, в котором подложку (20) поднимают на этапе (d) способа на расстояние от 0,1 до 20 мм, в частности от 1 до 10 мм, относительно подложкодержателя (24).6. Способ по пп.1, 2 или 3, в котором нагревательное устройство состоит из инфракрасных излучателей, использующих фильтрующие слои, чтобы испущенный инфракрасный свет содержал только такие длины волн, которые поглощаются либо подложкой, либо уже осажденной системой слоев.7. Способ по п.4, в котором нагревательное устройство состоит из инфракрасных излучателей, использующих фильтрующие слои, что |
