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Die Erfindung betrifft ein Herstellungsverfahren für ein Nanoporen-aufweisendes Teil mit den Schritten: Bilden einer Ätzstoppschicht (14) auf einem Substrat (10); Abdecken der Ätzstoppschicht (14) mit mindestens einer Schicht (18, 20), wobei mindestens ein Metall auf und/oder über der Ätzstoppschicht (14) abgeschieden wird; Ätzen mindestens einer Aussparung (24) durch die die Ätzstoppschicht (14) abdeckende mindestens eine Schicht (18, 20), wodurch mindestens eine von dem Substrat (10) weg gerichtete Teilaußenfläche (26) mindestens eines Teilbereichs (28) der Ätzstoppschicht (14) freigelegt wird; Bilden mindestens einer Membran (38) auf dem mindestens einen freigelegten Teilbereich (28) der Ätzstoppschicht (14) durch Atomlagenabscheidung mindestens eines Materials; und Bilden einer Nanopore (40) durch die mindestens eine Membran (38) mittels eines Elektronen- und/oder Ionenstrahls. Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Nanoporenaufweisendes Teil. |
