发明名称 |
壁圈内陷的陶器加工方法及其陶器 |
摘要 |
壁圈内陷的陶器加工方法,其特征在于:第一步,陶土制作坯体工艺,且在坯体底部设置壁圈内陷结构,壁足部位比壁圈和壁心部位外凸;第二步,制作耐火材料的支架2,且支架上的支撑部与壁圈相对应;第三步,将支架支撑在待烧的配体上,进行烧制,支架的支撑部恰好与壁圈对齐支撑坯体烧制;第四步,烧制好后除壁圈外,陶器本体1外表面均上釉。壁圈为圆形,与之对应的支架2的支撑部也为圆形。壁圈内陷的陶器加工方法加工的陶器,陶器底部的壁圈12内陷,且壁足11部位比壁圈和壁心13部位外凸。本发明的有益效果:壁圈部分内陷,壁足部位比壁圈部分外凸,壁足外表面光滑,本发明在桌面等其他表面摩擦时,不会对桌面或其它表面形成磨痕。 |
申请公布号 |
CN103664139A |
申请公布日期 |
2014.03.26 |
申请号 |
CN201210322234.9 |
申请日期 |
2012.09.03 |
申请人 |
朱小杰 |
发明人 |
朱小杰 |
分类号 |
C04B33/22(2006.01)I;C04B33/34(2006.01)I |
主分类号 |
C04B33/22(2006.01)I |
代理机构 |
北京中北知识产权代理有限公司 11253 |
代理人 |
程春生 |
主权项 |
壁圈内陷的陶器加工方法,其特征在于,第一步,陶土制作坯体工艺,且在坯体底部设置壁圈内陷结构,壁足部位比壁圈和壁心部位外凸;第二步,制作耐火材料的支架,且支架上的支撑部与壁圈相对应;第三步,将支架支撑在待烧的配体上,进行烧制,支架的支撑部恰好与壁圈对齐支撑坯体烧制;第四步,烧制好后除壁圈外,陶器外表面均上釉。 |
地址 |
325011 浙江省温州市温州经济技术开发区玉苍东路1号 |