| 发明名称 | 建模用光刻图形及其量测方法 | ||
| 摘要 | 一种建模用光刻图形及其量测方法，其中所述建模用光刻图形，包括：呈行列分布的若干基准图形，每个基准图形包括若干间隔分布的第一线状图形；位于相邻的基准图形之间的辅助图形，所述辅助图形包括位置图形和数据图形，所述位置图形用于定位相邻的基准图形的参考位置信息和数据图形的参考位置信息，所述数据图形用于在定位基准图形所在行或列的信息。提高了采集数据的精度。 | ||
| 申请公布号 | CN103676464A | 申请公布日期 | 2014.03.26 |
| 申请号 | CN201410006853.6 | 申请日期 | 2014.01.07 |
| 申请人 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 发明人 | 钟政;金晓亮 |
| 分类号 | G03F1/36(2012.01)I;G03F1/44(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/36(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 骆苏华 |
| 主权项 | 一种建模用光刻图形，其特征在于，包括：呈行列分布的若干基准图形，每个基准图形包括若干间隔分布的第一线状图形；位于相邻的基准图形之间的辅助图形，所述辅助图形包括位置图形和数据图形，所述位置图形用于定位相邻的基准图形的参考位置信息和数据图形的参考位置信息，所述数据图形用于在定位基准图形所在行或列的信息。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 | ||