用于多个基板的气体处理的系统和方法

摘要

本发明提供了用于多个基板的气体处理的系统和方法。本发明涉及用于一个或更多个基板的气体处理的系统和方法，所述系统和方法在反应室内包括至少两个气体注入器，所述至少两个气体注入器中的一个气体注入器是移动式的。该系统还可以包括用于保持在所述反应室内布置的一个或更多个基板的基板支撑结构。所述移动式气体注入器可以布置在所述基板支撑结构与另一个气体注入器之间。所述气体注入器可以被构造为从它们排出不同的过程气体。所述基板支撑结构可以围绕旋转轴线可旋转。

主权项

一种用于至少一个基板的气体处理的系统，该系统包括：反应室；构造为保持在所述反应室内布置的至少一个基板的至少一个基板支撑结构，所述至少一个基板支撑结构可围绕所述至少一个基板支撑结构的旋转轴线旋转；在所述反应室内布置在所述基板支撑结构的上方的至少一个静态气体注入器；以及布置在所述基板支撑结构的上方的至少一个移动式气体注入器，所述至少一个移动式气体注入器能相对于所述至少一个静态气体注入器、以及相对于所述基板支撑结构而运动，可移向以及移离所述至少一个基板支撑结构，所述移动式气体注入器包括：用于将所述至少一个移动式气体注入器移向以及移离所述至少一个基板支撑结构的驱动装置；以及用于从所述至少一个移动式气体注入器排出一种或多种过程气体的一个或多个出气口，其中所述至少一个移动式气体注入器的所述一个或多个出气口靠近所述至少一个移动式气体注入器的底部布置，并且所述一个或多个出气口被构造为沿着以相对于所述至少一个基板支撑结构的所述旋转轴线成大于零的角度取向的至少一个方向排出所述一种或多种过程气体。