发明名称 |
形成图案化掺杂区的方法 |
摘要 |
本发明公开一种形成图案化掺杂区的方法,其包括:提供一基底;形成一第一型态掺杂材料于基底上;形成一第二型态掺杂材料于基底上,其中第一型态掺杂材料与第二型态掺杂材料相隔一间距;形成一覆盖层,覆盖基底、第一型态掺杂材料和第二型态掺杂材料;及进行一热扩散制作工艺,使第一型态掺杂材料和第二型态掺杂材料扩散入基底中。 |
申请公布号 |
CN103681948A |
申请公布日期 |
2014.03.26 |
申请号 |
CN201210411354.6 |
申请日期 |
2012.10.25 |
申请人 |
财团法人工业技术研究院 |
发明人 |
孙文檠;游胜闵;王泰瑞;林泽胜 |
分类号 |
H01L31/18(2006.01)I;H01L21/22(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
陈小雯 |
主权项 |
一种形成图案化掺杂区的方法,包括:提供一基底;形成一第一型态掺杂材料于该基底上;形成一第二型态掺杂材料于该基底上,其中该第一型态掺杂材料与该第二型态掺杂材料相隔一间距;形成一覆盖层,覆盖该基底、该第一型态掺杂材料和该第二型态掺杂材料;及进行一热扩散制作工艺,使该第一型态掺杂材料和该第二型态掺杂材料扩散入该基底中。 |
地址 |
中国台湾新竹县 |