发明名称 按键机构及键盘
摘要 本发明关于一种按键机构及键盘。按键机构包含底板、键帽、框架及向上作用力源。键帽设置于底板之上并位于其周围具有朝上的斜面。框架设置于底板之上并具有通孔结构。通孔结构于其内缘具有朝下的斜面,此二斜面相对设置。向上作用力源设置于底板与键帽之间,可使键帽向上运动直到键帽的周围接触到框架,使得键帽部分穿过通孔结构。此二斜面于该底板的投影部分重叠,当向上作用力源使键帽向上移动而接近框架,此二斜面接触时,能导引键帽朝向通孔结构的部位偏移。本发明利用键帽的斜面与通孔结构内缘的斜面配合,产生限制及稳定键帽作动的效果;且于整体占用面积不变的条件下,扩大键帽的尺寸,便于使用者按压操作。
申请公布号 CN103681064A 申请公布日期 2014.03.26
申请号 CN201310653861.5 申请日期 2013.12.06
申请人 苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司 发明人 苏政敏;刘家宏;孙长恩
分类号 H01H13/705(2006.01)I 主分类号 H01H13/705(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种按键机构,其特征在于该按键机构包含:底板;键帽,设置于该底板之上并具有周围及位于该周围的第一斜面,该第一斜面朝上;框架,设置于该底板之上并具有通孔结构,该通孔结构具有内缘及位于该内缘的第三斜面,该第三斜面朝下并与该第一斜面相对;以及向上作用力源,设置于该底板与该键帽之间,该向上作用力源可使该键帽向上运动直到该键帽的该周围接触到该框架,使得该键帽部分穿过该通孔结构;其中,该第一斜面于该底板的投影与该第三斜面于该底板的投影部分重叠,当该向上作用力源使该键帽向上移动而接近该框架,该第三斜面与该第一斜面接触时,该第三斜面导引该键帽朝向该通孔结构的中央部位偏移。
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