发明名称 用于确定粒子-光学仪器中畸变的方法
摘要 本发明涉及一种确定TEM的投影系统中的畸变的方法,以及一种用于校正这些像差的方法。所述像差是通过收集样品的大量的像进行确定的,所述样品在每一次像的获取之间被稍微移动。在这些像上将显示样品相同部分的子场(303,304-i)进行比较。这些子场(303,304-i)将显示一些对应于微分像差的小的差别。这样能够确定在大量的点中的所述微分像差,此后通过积分能够确定每一个点的像差。最后对像中每一个被探测像素的要被显示的位置进行校正,显示的像具有大大降低的像差。根据本发明的方法的优点在于不需要样品的高精度步长,也不需要知道样品的几何形状。
申请公布号 CN101858821B 申请公布日期 2014.03.26
申请号 CN200910260522.4 申请日期 2009.12.11
申请人 FEI公司 发明人 B·里格;M·范德斯塔姆
分类号 G01M11/02(2006.01)I 主分类号 G01M11/02(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 谭佐晞;杨松龄
主权项 确定粒子‑光学仪器中畸变的方法,所述仪器配备有:粒子源,其用于产生沿着粒子‑光学轴方向的粒子束;用于保持对象的对象保持器,所述对象保持器能够移动被放置在所述对象保持器中的对象;投影系统,其用于形成所述对象的像;以及探测器,其用于获取和存储所述对象的像;所述方法包括:提供对象;获取第一个像(300);以及确定所述畸变;所述方法的特征在于:在所述第一个像中限定子像(303),第一个子像显示所述对象的小部分;获取一系列的像(310),在每一次获取之间移动所述对象;确定在所述像之间已实现的移动;在所述像的每一个中识别显示所述对象的小部分的子像(304‑i);确定所述子像中的每一个相对于彼此的子像畸变;以及将所述子像中的每一个的所述子像畸变用于确定所述像的畸变。
地址 美国俄勒冈州