带有真空室的基片处理装置

摘要

1．本外观设计产品的名称：带有真空室的基片处理装置。2．本外观设计产品的用途：通过在真空室内建立气体流并点燃等离子体以处理基片。3．本外观设计的设计要点：如图所示的形状特征，在于圆柱形主体，包括弧形主体、矩形圆角主体以及它们之间的中间主体的形状特征。4．本外观设计的基本设计：设计1。5．最能表明设计要点的图片或者照片：设计1立体图1。