发明名称 |
电气接点及其制造方法、电极、真空灭弧室、真空开闭设备 |
摘要 |
本发明廉价且加工性佳,稳定地持续截断电流的降低效果。本发明的电气接点具备Cu母相和在上述Cu母相中分散的Cu和低融点金属的化合物,上述低融点金属在1000℃中的蒸气压为105Pa以上,上述化合物的低融点金属/Cu的值即化学当量组成比大于0.5,上述化合物的长度方向相对于接点面以90°±10°的角度取向。另外,电气接点的制造方法中,对具有上述Cu母相和上述化合物的混合物以减面率70~85%进行加热的同时进行拉伸,将以上述减面率减面后的面用作电气接点的接点面。 |
申请公布号 |
CN103681016A |
申请公布日期 |
2014.03.26 |
申请号 |
CN201310369363.8 |
申请日期 |
2013.08.22 |
申请人 |
株式会社日立制作所 |
发明人 |
菊池茂;森田歩;土屋贤治;藪雅人;中沢彰男 |
分类号 |
H01H1/025(2006.01)I;H01H33/664(2006.01)I;H01H11/04(2006.01)I |
主分类号 |
H01H1/025(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
肖靖 |
主权项 |
一种电气接点,具备Cu母相、和在上述Cu母相中分散的Cu和低融点金属的化合物,其特征在于,上述低融点金属在1000℃中的蒸气压为105Pa以上,上述化合物的低融点金属/Cu的值即化学当量组成比大于0.5,上述化合物的长度方向相对于接点面以90°±10°的角度取向。 |
地址 |
日本东京 |