发明名称 |
薄膜厚度测量装置 |
摘要 |
本发明公开了一种薄膜厚度测量装置,包括:紫外单色光源;光阑,光阑垂直设置;半透半反镜,半透半反镜的中心点、光阑的中心点与紫外单色光源位于同一直线上,半透半反镜所在平面与光阑所在平面夹45°角,半透半反镜用于将紫外单色光源透过光阑的入射光向上反射到待测薄膜的内外表面,以及用于透过待测薄膜的内外表面向下射出的反射光;以及成像设备,成像设备水平设置在半透半反镜的下方。该薄膜厚度测量装置由于采用了紫外单色光源,因此可以用于高精度薄膜厚度测量,结构简单可靠、光路稳定,其安装调试和系统的维护也很方便,测量精度高。 |
申请公布号 |
CN103673903A |
申请公布日期 |
2014.03.26 |
申请号 |
CN201310717708.4 |
申请日期 |
2013.12.23 |
申请人 |
清华大学 |
发明人 |
刘飞翔;蒲以康 |
分类号 |
G01B11/06(2006.01)I |
主分类号 |
G01B11/06(2006.01)I |
代理机构 |
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 |
代理人 |
黄德海 |
主权项 |
一种薄膜厚度测量装置,其特征在于,包括:紫外单色光源;光阑,所述光阑垂直设置;半透半反镜,所述半透半反镜的中心点、所述光阑的中心点与紫外单色光源位于同一直线上,所述半透半反镜所在平面与所述光阑所在平面夹45°角,所述半透半反镜用于将所述紫外单色光源透过所述光阑的入射光向上反射到待测薄膜的内外表面,以及用于透过所述待测薄膜的内外表面向下射出的反射光;以及成像设备,所述成像设备水平设置在所述半透半反镜的下方。 |
地址 |
100084 北京市海淀区100084-82信箱 |