一种功率器件缓冲层或截流子存储层的制备方法

摘要

本发明公开了一种功率器件缓冲层或截流子存储层的制备方法，属于半导体设备技术领域，通过中子嬗变掺杂将中子通过掩膜注入到衬底的单侧或者双侧或者通过光致嬗变掺杂将光子通过掩膜注入到衬底的单侧或者双侧，通过精确控制中子或光子的辐照剂量，使衬底形成特定浓度的缓冲层或载流子存储层。由于中子和高能光子的穿透能力非常强，几乎是直线穿过衬底。在中子经过的路径上由于嬗变引入了N型或P型的杂质，通过控制辐照的剂量，可以形成具有浓度的N+或P型掺杂层。同时，由于中子束足够细，可以形成任何形状的掺杂分布图。

主权项

一种功率器件缓冲层或截流子存储层的制备方法，其特征在于，通过中子嬗变掺杂将中子通过掩膜注入到衬底的单侧或者双侧或者通过光致嬗变掺杂将光子通过掩膜注入到衬底的单侧或者双侧，通过控制辐照剂量，使所述衬底形成具有特定浓度的缓冲层或截流子存储层。