粉末旋转化学气相沉积装置

摘要

本发明公开了一种粉末旋转化学气相沉积装置，包括支架以及固定在支架上的炉管，炉管外环绕有主电炉，炉管两端分别连接有原料气进气装置、载流气进气装置和废气处理装置，炉管内设置有活动转轴，转轴上固定有圆柱形的反应腔，反应腔设有从内壁面往轴心侧延伸的多个搅拌刀片用于搅拌粉末基底，转轴内设有多个热电偶；本发明的反应腔在镀膜过程中保持旋转，并且通过搅拌刀片带动粉体原料连续翻动，不仅保证粉体表面镀膜均匀，而且可以通过控制旋转周期等工艺参数控制镀膜厚度，可实现在任意尺寸粉体表面的镀膜，而且适用于包括金属、非金属和陶瓷粉体在内的所有无机物镀膜。

主权项

一种粉末旋转化学气相沉积装置，包括支架（7）以及固定在其上的炉管（6），所述炉管（6）外环绕有主电炉（42），炉管（6）两端分别连接有原料气进气装置、载流气进气装置和废气处理装置，其特征在于：炉管（6）内设置有活动转轴（9），转轴（9）上固定有圆柱形的反应腔（15），反应腔（15）内设有从腔内壁面往轴心侧延伸的多个搅拌刀片（16），用于搅拌反应腔内的粉末基底；转轴（9）内还设有多个热电偶（10）。