发明名称 |
直接用于X射线单晶衍射分析的二甲氧基紫杉烷类化合物单晶晶体的制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种直接用于X射线单晶衍射分析的二甲氧基紫杉烷类化合物单晶晶体的制备方法,属于化合物结构表征样品制备技术领域。取二甲氧基紫杉烷类化合物加入到良性溶剂中,加入量为每500mg二甲氧基紫杉烷类化合物加入0.5-500mL,随后边搅拌边加入不良溶剂,直至其有浑浊生成,加热使浑浊消失,室温下静置结晶,即得单晶晶体。本发明制备的二甲氧基紫杉烷类化合物单晶晶体可直接用于X射线单晶衍射分析,简单明了,准确性高。 |
申请公布号 |
CN102503913B |
申请公布日期 |
2014.03.26 |
申请号 |
CN201110321866.9 |
申请日期 |
2011.10.20 |
申请人 |
江苏红豆杉生物科技股份有限公司 |
发明人 |
陈磊;郑伟;李隆;王琼;徐信保 |
分类号 |
C07D305/14(2006.01)I;G01N1/28(2006.01)I |
主分类号 |
C07D305/14(2006.01)I |
代理机构 |
无锡市大为专利商标事务所 32104 |
代理人 |
曹祖良 |
主权项 |
直接用于X射线单晶衍射分析的二甲氧基紫杉烷类化合物单晶晶体的制备方法,其特征是步骤如下:取二甲氧基紫杉烷类化合物4‑乙酰氧基‑2α‑苯甲酰氧基‑5β,20‑环氧基‑1‑羟基‑7β,10β‑二甲氧基‑9‑氧代紫衫‑11‑烯‑13α‑基(2R,3S)‑3‑叔丁氧羰基氨基‑2‑羟基‑3‑苯基丙酸酯,加入到良性溶剂中,加入量为每500mg二甲氧基紫杉烷类化合物加入0.5‑500mL,随后边搅拌边加入不良溶剂,直至其有浑浊生成,加热至40‑80℃使浑浊消失,室温下静置结晶1小时至14天,即得单晶晶体;将所得单晶晶体抽滤,用石油醚清洗,清洗后干燥即得直接用于X射线单晶衍射分析的二甲氧基紫杉烷类化合物单晶晶体;所述良性溶剂为乙酸乙酯、氯仿、二氯甲烷、甲醇、四氢呋喃、1、4‑二氧六环、醋酸、吡啶和甲苯中的一种或几种任意比例任意的组合;所述不良溶剂为石油醚、正己烷、正庚烷和环己烷的中的一种或几种任意比例任意的组合。 |
地址 |
214199 江苏省无锡市锡山区东港镇港下红豆集团有限公司 |