发明名称 |
一种彩膜基板及其制作方法、显示装置 |
摘要 |
本发明实施例公开了一种彩膜基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,能够降低彩膜基板的制作成本,同时易形成具有高度差异而尺寸接近的主要隔垫物和次要隔垫物,且两种隔垫物的形貌更加均匀,能起到更好的支撑效果,提高显示品质。所述彩膜基板的制作方法包括:在基板上制作黑矩阵图形和彩色光阻图形,其中,平行于栅线方向黑矩阵图形包括主区域和辅区域,主区域垂直于栅线方向的宽度大于辅区域垂直于栅线方向的宽度;制作平坦层和隔垫物,隔垫物包括主要隔垫物和次要隔垫物,其中,主要隔垫物位于黑矩阵图形的主区域上,次要隔垫物位于黑矩阵图形的辅区域上,主要隔垫物的高度大于次要隔垫物的高度。 |
申请公布号 |
CN103676293A |
申请公布日期 |
2014.03.26 |
申请号 |
CN201310632632.5 |
申请日期 |
2013.12.02 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
发明人 |
查长军;黎敏;姜晶晶;吴洪江 |
分类号 |
G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/1339(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1335(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括:通过构图工艺在基板上制作黑矩阵图形和彩色光阻图形,其中,平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域,所述主区域垂直于栅线方向的宽度大于所述辅区域垂直于栅线方向的宽度;在所述彩色光阻图形和所述黑矩阵图形上制作平坦层;在所述平坦层上制作隔垫物,所述隔垫物包括主要隔垫物和次要隔垫物,其中,所述主要隔垫物位于所述黑矩阵图形的主区域上,所述次要隔垫物位于所述黑矩阵图形的辅区域上,所述主要隔垫物的高度大于所述次要隔垫物的高度。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |