发明名称 |
垂直的微电子元件以及相应的制造方法 |
摘要 |
本发明实现了一种垂直的微电子元件以及相应的制造方法。该垂直的微电子元件包括半导体基(1;1’’’)以及大量在半导体基(1;1’’’)的正面(O)上形成的鳍状物(1a、1b)的结构,所述半导体基具有正面(O)和背面(R),所述鳍状物具有相应的侧壁(S)和相应的上侧(T)并且通过凹穴(G)相互分开。每个鳍状物(1a、1b)包括至少一个GaN/AlGaN-异层区域(2a、2b)以及至少一个门接口区域(G1-G4),所述GaN/AlGaN-异层区域形成在侧壁(S)上并且具有嵌入的通道区域(K),该通道区域基本上平行于侧壁(S)延伸,所述门接口区域在GaN/AlGaN-异层区域(2a、2b)上方与所属的凹穴(G)中的通道区域(K)电绝缘地布置在侧壁(S)上。共同的源接口区域(SL)布置在鳍状物(1a、1b)上方并且与鳍状物(1a、1b)上侧(T)附近的通道区域(K)的各个第一端部连接。共同的排出接口区域(DL)布置在背面(R)的上方并且与半导体基(1、1’’’)的正面(O)附近的通道区域(K)的各个第二端部连接。 |
申请公布号 |
CN103681836A |
申请公布日期 |
2014.03.26 |
申请号 |
CN201310427220.8 |
申请日期 |
2013.09.18 |
申请人 |
罗伯特·博世有限公司 |
发明人 |
C.舍林;W.达夫斯 |
分类号 |
H01L29/778(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/335(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/778(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
汲长志;杨国治 |
主权项 |
垂直的微电子元件,其具有半导体基(1;1’’’),该半导体基具有正面(O)和背面(R);大量在半导体基(1;1’’’)的正面(O)上形成的鳍状物(1a、1b)的结构,所述鳍状物具有相应的侧壁(S)和相应的上侧(T)并且通过凹穴(G)相互分开;其中每个鳍状物(1a、1b)具有: 至少一个GaN/AlGaN‑异层区域(2a、2b),所述GaN/AlGaN‑异层区域形成在侧壁(S)上并且具有嵌入的通道区域(K),该通道区域基本上平行于侧壁(S)延伸; 至少一个门接口区域(G1‑G4),该门接口区域在GaN/AlGaN‑异层区域(2a、2b)上方相对于所属的凹穴(G)中的通道区域(K)电绝缘地布置在侧壁(S)上;共同的源接口区域(SL),该源接口区域布置在鳍状物(1a、1b)上方并且与鳍状物(1a、1b)上侧(T)附近的通道区域(K)的各个第一端部连接;以及共同的排出接口区域(DL),该排出接口区域布置在背面(R)的上方并且与半导体基(1、1’’’)的正面(O)附近的通道区域(K)的各个第二端部连接。 |
地址 |
德国斯图加特 |