原位产生碳酰氟化物或其任何变异体的分子蚀刻剂的方法及其应用

摘要

本发明的题目是原位产生碳酰氟化物或其任何变异体的分子蚀刻剂的方法及其应用。根据本发明，分子蚀刻剂碳酰氟化物COF2被提供以作为增加蚀刻和/或清洁和/或移除材料的效率。本发明的方法涉及激发与维持一电浆，无论其是远程或原位，藉由逐步方式加入添加物，例如但不限于，饱和、不饱和、或部分不饱和且具有分子式CyFz的全氟碳化合物和/或碳氧化物（COx）至三氟化氮电浆，进入化学气相沉积腔室之中，进而产生碳酰氟化物COF2。三氟化氮可在化学气相沉积腔室中的电浆中进行激发，或是在距化学气相沉积腔室上游的一电浆远程区域内进行激发。添加物可于远程电浆的上游或下游进行导入，使得在清洁时，三氟化氮与添加物均存在于化学气相沉积腔室中。

主权项

一种原位产生碳酰氟化物或其任何变异体的方法，包含：将三氟化氮、一氧源以及一全氟碳化合物暴露于一能量源，其中所述氧源具有化学式COX，X为1或2，而所述全氟碳化合物为饱和、不饱和、或部分不饱和，且具有化学式CyFZ；解离所述三氟化碳、所述氧源以及所述全氟碳化合物，进而产生氟/氟自由基以及一氧化碳自由基；以及藉由所述氟/氟自由基与所述一氧化碳自由基的结合而原位形成碳酰氟化物。