发明名称 |
一种提高靶材溅射均匀性的旋转平面磁控溅射靶及运动 |
摘要 |
一种提高靶材溅射均匀性的旋转平面磁控溅射靶及运动。包括磁铁在内,其特征在于:还包括平面靶及与平面靶连接的传动系统在内的结构;其运动是:磁铁固定不动,平面靶通过传动系统绕自己的中心轴进行匀速旋转运动。由于采用旋转平面靶技术,工作时磁铁固定不动,平面靶匀速旋转,使传统平面磁控溅射靶中存在的靶面刻蚀均匀性差,靶材利用率低的现象得到明显的改善,使靶面刻蚀均匀,大大提高靶材的溅射均匀性,同时又提高了靶材利用率。 |
申请公布号 |
CN103668091A |
申请公布日期 |
2014.03.26 |
申请号 |
CN201210348112.7 |
申请日期 |
2012.09.19 |
申请人 |
上海新产业光电技术有限公司 |
发明人 |
缪同群;张贵彦;王志洲;刘宝星 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种提高靶材溅射均匀性的旋转平面磁控溅射靶及运动,包括磁铁在内,其特征在于:还包括平面靶及与平面靶连接的传动系统的结构;其运动是:磁铁固定不动,平面靶通过传动系统绕自己的中心轴进行匀速旋转运动。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区居里路108号二期通用厂房丙单元 |