| 发明名称 | 纹理化成像构件 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种包括表面层的成像构件，所述表面层包含基质材料、气凝胶组分和辐射吸收填料。本发明也公开了制造所述成像构件的方法以及使用所述成像构件的可变平版印刷的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN103660530A | 申请公布日期 | 2014.03.26 |
| 申请号 | CN201310343843.7 | 申请日期 | 2013.08.08 |
| 申请人 | 施乐公司;帕洛阿尔托研究中心公司 | 发明人 | C·摩尔拉格;T·D·斯特沃;N-X·胡;G·B·安德森 |
| 分类号 | B41F13/10(2006.01)I;B41N1/14(2006.01)I | 主分类号 | B41F13/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人 | 王媛;钟守期 |
| 主权项 | 一种包括表面层的成像构件，其中所述表面层包含基质材料、气凝胶组分和辐射吸收填料。 | ||
| 地址 | 美国康涅狄格州 | ||