发明名称 一种低压爆破用结构膜片
摘要 本发明公开了一种低压爆破用结构膜片,采用“工”字型刻槽结构,膜片爆破后沿“工”字刻痕裂开,左右两边各有无刻痕段用于连接,爆破后膜片完全贴合在夹持器内壁上,不会飞出或掉落,且满足常温爆破压差值为0.20MPa~0.27MPaMPa,解决了传统单铰式刻痕膜片所不能达到的低压爆破且爆破后易被吹落的问题,提高了火箭发射安全性和可靠性。
申请公布号 CN103672083A 申请公布日期 2014.03.26
申请号 CN201310577098.2 申请日期 2013.11.18
申请人 北京宇航系统工程研究所;中国运载火箭技术研究院 发明人 司会柳;许光;贺启林;殷明霞;周智勇;王剑中
分类号 F16K17/40(2006.01)I 主分类号 F16K17/40(2006.01)I
代理机构 中国航天科技专利中心 11009 代理人 臧春喜
主权项 一种低压爆破用结构膜片,其特征在于:在圆形膜片上半部和下半部外圆周位置各开有一个扇形刻痕,上扇形刻痕(1)、下扇形刻痕(2)相对膜片水平轴(4)对称,在膜片垂直轴(5)方向开有与上扇形刻痕(1)、下扇形刻痕(2)相连通的直线刻痕(3),上扇形刻痕(1)、下扇形刻痕(2)和直线刻痕(3)形成“工”字型;所述上扇形刻痕(1)、下扇形刻痕(2)的扇形夹角为140‑150°。
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