发明名称 | 一种集成电路版图验证中短路路径的图形优化方法 | ||
摘要 | 本发明公布了一种集成电路版图验证中短路路径的图形优化方法,所属的技术领域是集成电路计算机辅助设计领域,尤其是涉及集成电路版图的设计规则检查(DRC)和版图与原理图的一致性检查(LVS)领域。本发明涉及三个关键的步骤,首先是图形切分,借助于扫描线方法,将复杂图形切分为简单的梯形或三角形;其次将问题抽象为无向图的路径查找问题,利用广度优先遍历,找出从源点到终点,且图形个数最少的一条路径;最后利用切分后图形的特点,将由同一个图形切分得到的梯形或三角形合并。在集成电路版图验证中利用本方法,可以有效地优化短路路径在版图中的表示,使其更加直观和简洁,有利于设计人员快速地定位短路位置。 | ||
申请公布号 | CN103678741A | 申请公布日期 | 2014.03.26 |
申请号 | CN201210344329.0 | 申请日期 | 2012.09.17 |
申请人 | 北京华大九天软件有限公司 | 发明人 | 丁丰庆;王国庆;王志明;刘艳霞 |
分类号 | G06F17/50(2006.01)I | 主分类号 | G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 一种集成电路版图验证中短路路径的图形优化方法,其技术特征包含以下三点:①采用图形切分方法,对短路路径上的图形进行切分,将复杂图形切分为规则的梯形和三角形。②采用路径搜索方法,找出短路路径上从源点到终点图形个数最少的一条路径,这条路径上的图形都是规则的梯形或者三角形。③采用图形合并方法,将来自同一个图形的梯形或三角形合并,生成优化的短路路径图形。 | ||
地址 | 100102 北京市朝阳区利泽中二路2号A座二层 |