光致发光器件的锥体微纳结构的制备方法

摘要

本发明提供一种光致发光器件的锥体微纳结构的制备方法，包括涂覆光刻胶、曝光、显影、沉积、除胶等十个步骤，这十个步骤是首先通过多层二维图形制备技术制备塔形的锥体雏形，然后在通过沉积补形得到锥体维纳结构，多层二维图形制备技术得到规则的塔形的锥体雏形，沉积补形形成锥体微纳结构的各个侧面，得到锥体微纳结构，这种制备方法能够克服化学腐蚀速率差异产生的结构缺陷问题，能够得到预先设计的锥体微纳结构，准确性较高。

主权项

一种光致发光器件的锥体微纳结构的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一：在基板上涂覆光刻胶形成第一光刻胶层；步骤二：对所述基板进行曝光，以在所述第一光刻胶层上形成第一光刻图形，所述第一光刻图形为正多边形；步骤三：使用显影液进行显影，以在所述第一光刻胶层上形成横截面的形状与所述第一光刻图形相同的第一微孔；步骤四：在所述第一微孔中沉积材料形成第一微纳结构；步骤五：除去剩余的光刻胶；步骤六：重复所述步骤一至步骤五，在所述第一微纳结构上形成依次层叠的、尺寸依次减小的多个第二微纳结构，所述第一微纳结构和所述多个第二微纳结构形成塔形的锥体雏形；步骤七：重复所述步骤一及步骤二以在所述基板上形成第二光刻胶层及在所述第二光刻胶层上形成第二光刻图形，所述第二光刻图形与所述第一光刻图形相邻且一个边与所述第一光刻图形的一个边重合，重复所述步骤四以在所述第二光刻胶层上形成横截面的形状与所述第二光刻图形相同的第二微孔；步骤八：在所述塔形的锥体雏形的侧面上沉积材料及在所述第二微孔上沉积材料部分填满所述第二微孔，以形成所述锥体微纳结构的一个侧面；步骤九：重复所述步骤七和步骤八，形成所述锥体微纳结构的各个侧面，得到所述锥体微纳结构；及步骤十：除去剩余的光刻胶。