半导体热处理设备的温控方法

摘要

本发明涉及一种半导体热处理设备的温控方法，热处理设备包括炉体和设于炉体中的工艺管，晶圆在工艺管中进行半导体工艺，炉体包括多个温区，每一温区中至少设有一超温热偶和多个控温热偶，超温热偶用于感测温区中的温度，控温热偶用于调节温区中的温度，方法包括如下步骤：a)对超温热偶与控温热偶的报警信号进行加权评分；b)若评分不低于第一阈值，则停止向热处理设备输出电功率。该方法增加了实施停止加热措施时的可信度，还可通过对主、辅控温热偶的调整，有针对性地采用不同的控温模式，更好地保证设备的可靠稳定运行。

主权项

一种半导体热处理设备的温控方法，所述热处理设备包括炉体和设于所述炉体中的工艺管，晶圆在所述工艺管中进行半导体工艺，所述炉体包括多个温区，每一所述温区中至少设有一超温热偶和多个控温热偶，所述超温热偶用于感测所述温区中的温度，所述控温热偶用于调节所述温区中的温度，所述方法包括如下步骤：a)、对所述超温热偶与所述控温热偶的报警信号进行加权评分；b)、若所述评分不低于第一阈值，则停止向所述热处理设备输出电功率。