发明名称 一种对锗片进行清洗及表面钝化的方法
摘要 本发明公开了一种对锗片进行清洗及表面钝化的方法,包括:选择锗片,将锗片置于丙酮和乙醇溶液中分别进行超声清洗,去除锗片表面的有机污染物;采用盐酸溶液和去离子水对锗片进行清洗,去掉残留在锗片表面的不规整的本征氧化锗薄膜和金属离子;将锗片置于双氧水和氨水混合溶液中进行清洗,使得在锗片表面产生一层锗的氧化物薄膜作为牺牲层,从而去除锗片表面的缺陷;采用盐酸溶液对锗片进行钝化处理,从而用氯原子修饰锗表面的悬挂键,获得稳定的锗表面。本发明提供的锗表面清洗与钝化的方法,具有操作简单、使用方便、成本低廉、钝化效果明显等优点。
申请公布号 CN103681245A 申请公布日期 2014.03.26
申请号 CN201310737833.1 申请日期 2013.12.26
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 王盛凯;杨旭;刘洪刚;孙兵;常虎东;赵威
分类号 H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/02(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 任岩
主权项 一种对锗片进行清洗及表面钝化的方法,其特征在于,该方法包括:步骤1:选择锗片,将锗片置于丙酮和乙醇溶液中分别进行超声清洗,去除锗片表面的有机污染物;步骤2:采用盐酸溶液和去离子水对锗片进行清洗,去掉残留在锗片表面的不规整的本征氧化锗薄膜和金属离子;步骤3:将锗片置于双氧水和氨水混合溶液中进行清洗,使得在锗片表面产生一层锗的氧化物薄膜作为牺牲层,从而去除锗片表面的缺陷;步骤4:采用盐酸溶液对锗片进行钝化处理,从而用氯原子修饰锗表面的悬挂键,获得稳定的锗表面。
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