一种制备单层六角氮化硼的方法

摘要

本发明公开了一种制备单层六角氮化硼薄膜的方法，属于薄膜材料制备领域。其主要原理为：在真空环境中或保护气体环境中，在基底(1)上蒸镀金属薄膜(2)。加热基底和金属薄膜至700至1200K。通入含有氮和硼的气体(3)。利用金属气体(3)的催化作用在金属表面形成单层氮化硼薄膜(4)。之后将整个样品冷却到室温。利用腐蚀性溶液腐蚀金属，实现单层氮化硼薄膜(4)和基底(1)的分离。通过此方法可以廉价快速清洁地制备单层氮化硼薄膜材料。

主权项

本发明公开了一种制备单层六角氮化硼薄膜的方法。包括：基底材料(1)、金属薄膜(2)、含氮原子硼原子的气体(3)、单层氮化硼薄膜(4)、气体分解后的剩余分子或原子(5)、其特征为：在真空环境中或保护气体环境中，在基底(1)上蒸镀金属薄膜(2)；加热基底和金属薄膜至700至1200K；通入含有氮和硼的气体(3)；利用金属气体(3)的催化作用在金属表面形成单层氮化硼薄膜(4)；之后将整个样品冷却到室温；利用腐蚀性溶液腐蚀金属，实现单层氮化硼薄膜(4)和基底(1)的分离；通过此方法可以廉价快速清洁地制备单层氮化硼薄膜材料。