发明名称 |
一种正装结构的发光二极管外延片 |
摘要 |
本实用新型公开了一种正装结构的发光二极管外延片,属于半导体技术领域。外延片包括:衬底、以及依次层叠在衬底上的Al层、AlN成核层、未掺杂的GaN层、n型层、多量子阱层和p型层,外延片还包括设于n型层内的反射层,反射层为分布式布拉格结构,分布式布拉格结构的每一周期包括AlxInyGa1-x-yN层和层叠在AlxInyGa1-x-yN层上的AlaInbGa1-a-bN层,AlxInyGa1-x-yN层和AlxInyGa1-x-yN层均掺杂有Si,且AlxInyGa1-x-yN层和AlaInbGa1-a-bN层掺杂的Si的量不同。本实用新型通过反射层将多量子阱层发出的光反射回去,提高了发光效率。 |
申请公布号 |
CN203503684U |
申请公布日期 |
2014.03.26 |
申请号 |
CN201320324998.1 |
申请日期 |
2013.06.06 |
申请人 |
华灿光电股份有限公司 |
发明人 |
孙玉芹;王江波;刘榕 |
分类号 |
H01L33/10(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/10(2010.01)I |
代理机构 |
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 |
代理人 |
徐立 |
主权项 |
一种正装结构的发光二极管外延片,所述外延片包括衬底、以及依次层叠在所述衬底上的Al层、AlN成核层、未掺杂的GaN层、n型层、多量子阱层和p型层,其特征在于,所述外延片还包括设于所述n型层内的反射层,所述反射层为分布式布拉格结构,所述分布式布拉格结构的每一周期包括n型AlxInyGa1‑x‑yN层和层叠在所述n型AlxInyGa1‑x‑yN层上的n型AlaInbGa1‑a‑bN层,其中,0≤x≤1,0≤y≤1,0≤a≤1,0≤b≤1。 |
地址 |
430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区滨湖路8号 |