一种用于晶圆表面瑕疵检测的装置与方法

摘要

本发明涉及半导体制造设备领域，尤其是涉及一种用于晶圆表面瑕疵检测的装置与方法，该装置包括主体部分和用以控制主体部分的控制单元，该主体部分包括：运动平台，其具有X轴和Y轴，X轴与Y轴定义一运动平面，Y轴可用以承载晶圆；第一Z轴，装设在X轴上并可相对于运动平面垂直运动；线阵相机，装设在第一Z轴上并通过第一Z轴调焦，用于晶圆表面瑕疵检测；第一光源，用来辅助线阵相机进行图像采集；第二Z轴，装设在X轴上并可相对于运动平面垂直运动；面阵相机，装设在第二Z轴上并通过第二Z轴调焦，用于晶圆表面瑕疵复查；第二光源，用来辅助面阵相机进行图像采集。本发明可以提高表面瑕疵检测的效率和质量。

主权项

一种用于晶圆表面瑕疵检测的装置，包括主体部分和用以控制所述主体部分的控制单元，其特征在于，所述主体部分包括：运动平台，其具有X轴和可相对所述X轴垂直运动的Y轴，所述X轴与Y轴定义运动平面，所述Y轴可用以承载晶圆；第一Z轴，装设在所述X轴上并可相对于所述的运动平面垂直运动；线阵相机，装设在所述第一Z轴上并通过第一Z轴调焦，用于晶圆表面瑕疵检测；第一光源，用来辅助所述的线阵相机进行图像采集；第二Z轴，装设在所述X轴上并可相对于所述的运动平面垂直运动；面阵相机，装设在所述第二Z轴上并通过第二Z轴调焦，用于晶圆表面瑕疵复查；第二光源，用来辅助所述面阵相机进行图像采集。