| 摘要 |
<p>큰 사이즈의 기판에 대해, VHF 주파수대와 같은 고주파로 여기되는 플라즈마의 밀도의 균일성을 개선할 수 있는 플라즈마 처리장치를 제공한다. 도파로(WG)를 획정하는 도파로 부재(401)와, 도파로(WG)의 길이 방향(A)에 있어서 소정의 급전 위치로부터 전자기 에너지를 해당 도파로(WG) 내에 공급하는 동축관(225)과, 도파로(WG)를 통해 전자기 에너지가 공급되는 동시에, 플라즈마 형성 공간 PS을 향하도록 배치된 전계 형성용의 복수의 전극(461)을 갖고, 복수의 전극(461)은, 도파로(WG)의 길이 방향(A)을 따라 배열되고, 복수의 전극(461)의 각각은, 도파로(WG)의 폭 방향(B)으로 연장되어 있다.</p> |
