| 摘要 |
<p>처리액에 기판을 침지시켜 기판에 대한 처리를 행하는 기판 처리 장치로서, 처리액을 저장하는 내조, 상기 내조로부터 흘러넘치는 처리액을 회수하는 외조, 상기 내조의 위쪽에 상당하는 대기 위치와, 상기 내조의 내부에 상당하는 처리 위치에 걸쳐서 기판과 함께 이동하는 리프터, 상기 내조와 상기 외조를 연통 접속하여, 처리액을 순환시키기 위한 순환 배관, 상기 내조와, 상기 외조와, 상기 순환 배관은, 리프터가 기판과 함께 처리 위치에 위치한 처리 상태에서, 상기 내조로부터 상기 외조로 처리액이 흘러넘치고, 또한, 리프터가 기판과 함께 대기 위치에 위치한 비처리 상태에서, 상기 내조로부터 상기 외조로 처리액이 흘러넘치지 않는 양의 처리액이 저장되어 있는 것과 동시에, 리프터가 기판과 함께 처리 위치로 이동할 때까지의 비처리 순환 상태에서는, 상기 내조로부터 상기 외조로 처리액을 유통시켜 상기 순환 배관을 통하여 처리액의 순환을 행하게 하는 순환 제어부를 포함한다.</p> |
