发明名称 成膜装置,成膜方法及记忆媒体
摘要
申请公布号 TWI431688 申请公布日期 2014.03.21
申请号 TW097110779 申请日期 2008.03.26
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 高木俊夫
分类号 H01L21/31;C23C16/455;H01L21/02 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本