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发明名称 间隔微影蚀刻
摘要
申请公布号 TWI431665 申请公布日期 2014.03.21
申请号 TW097125658 申请日期 2008.07.08
申请人 高级微装置公司 美国 发明人 金扬汉;邓玉芬;华洛　汤马士Ｉ;芳坦妮　布鲁诺　拉
分类号 H01L21/027;H01L21/308 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼
主权项
地址 美国
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