回复Ｋ的紫外光及还原处理及半导体处理中的表面清洁,申请号TW099123184-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	回复Ｋ的紫外光及还原处理及半导体处理中的表面清洁
摘要
申请公布号	TWI431690	申请公布日期	2014.03.21
申请号	TW099123184	申请日期	2010.07.14
申请人	诺菲勒斯系统公司美国	发明人	维拉德拉健　巴德利;安东李　乔治Ａ;凡　史拉文德克　巴特
分类号	H01L21/3105;H01L21/768	主分类号	H01L21/3105
代理机构		代理人	陈长文台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址	美国

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