光阻底层膜材料及使用其之图型形成方法,申请号TW097108711-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	光阻底层膜材料及使用其之图型形成方法
摘要
申请公布号	TWI431427	申请公布日期	2014.03.21
申请号	TW097108711	申请日期	2008.03.12
申请人	信越化学工业股份有限公司日本	发明人	畠山润;野田和美;橘诚一郎;金生刚;荻原勤
分类号	G03F7/11;G03F7/027;H01L21/027	主分类号	G03F7/11
代理机构		代理人	林志刚台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址	日本

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