发明名称 FINFET EN SILICIUM SUR ISOLANT AVEC UNE DEPENDANCE REDUITE VIS-A-VIS DE LA LARGEUR DU FIN
摘要 La présente invention se rapporte à un procédé de polarisation d'au moins un premier transistor FinFET (1000) et un deuxième transistor FinFET (1000), dans lequel le premier transistor FinFET a une largeur d'aileron supérieure à la largeur d'aileron (W1) du deuxième transistor FinFET, et le premier transistor FinFET et le deuxième transistor FinFET ont tous deux une grille arrière (1600), le procédé comprenant l'application de la même première tension à la grille arrière du premier transistor FinFET et à la grille arrière du deuxième transistor FinFET, de manière à réduire l'écart entre la valeur de courant à l'état bloqué du premier transistor FinFET et la valeur de courant à l'état bloqué du deuxième transistor FinFET.
申请公布号 FR2995722(A1) 申请公布日期 2014.03.21
申请号 FR20120058696 申请日期 2012.09.17
申请人 SOITEC 发明人 HOFMANN FRANZ
分类号 H01L27/088 主分类号 H01L27/088
代理机构 代理人
主权项
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