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发明名称 半导体装置之制造方法、半导体制造装置及记忆媒体
摘要
申请公布号 TWI431694 申请公布日期 2014.03.21
申请号 TW098106685 申请日期 2009.03.02
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 佐藤浩;伊藤仁;松本贤治
分类号 H01L21/3205;H01L21/768;H01L21/67 主分类号 H01L21/3205
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本
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