相位差薄膜及相位差薄膜层合体以及此等之制造方法,申请号TW097110802-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	相位差薄膜及相位差薄膜层合体以及此等之制造方法
摘要
申请公布号	TWI431375	申请公布日期	2014.03.21
申请号	TW097110802	申请日期	2008.03.26
申请人	新日铁住金化学股份有限公司日本	发明人	佐藤惠;矶崎正义;安藤秀树
分类号	G02F1/13363;G02B5/30;C08J5/18;C08F290/06	主分类号	G02F1/13363
代理机构		代理人	林志刚台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址	日本

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