| 摘要 |
<p>우수한 광의 반사 방지 성능이나 우수한 광의 투과 성능을 갖는 반사 방지막에 요구되는 표면 형상과 물성을 알아내고, 이러한 특정한 표면 형상과 물성을 갖는 반사 방지막과 그 반사 방지막의 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 하고, 알루미늄 재료의 표면을 기계 연마, 화학 연마 및/또는 전해 연마에 의해 가공한 후, 그 알루미늄 재료의 표면에, 양극 산화와 양극 산화 피막의 에칭의 조합에 의해 테이퍼 형상의 세공을 갖는 패턴(pattern; 型)을 제조하고, 이 패턴을 반사 방지막 형성 재료에 전사시킴으로써 얻어지고, 그 표면에 평균 높이 100 ㎚ 이상 1000 ㎚ 이하의 볼록부 또는 평균 깊이 100 ㎚ 이상 1000 ㎚ 이하의 오목부를 갖고, 그 볼록부 또는 오목부가, 적어도 어느 일 방향에 대해 평균 주기 50 ㎚ 이상 400 ㎚ 이하로 존재하며, 또한 헤이즈가 15 ％ 이하인 것을 특징으로 하는 반사 방지막을 제공하는 것이다.</p> |
