| 发明名称 | 一种用于在Si片上沉积碳膜的设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于在Si片上沉积碳膜的设备，其特征在于：包括有放电管，在所述的放电管内设有基片安装座，在所述基片安装座内设有能加热基片的加热器，在所述的放电管上设有进气管，在所述放电管上设有用于与抽真空装置连接的连接管，在所述放电管外壁上套设有线圈。本发明的目的是为了克服现有技术中的不足之处，提供一种结构简单，生产成本低，用于在Si片上沉积碳膜的设备。 | ||
| 申请公布号 | CN103643216A | 申请公布日期 | 2014.03.19 |
| 申请号 | CN201310549553.8 | 申请日期 | 2013.11.07 |
| 申请人 | 中山市创科科研技术服务有限公司 | 发明人 | 陈路玉 |
| 分类号 | C23C16/26(2006.01)I;C23C16/50(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286 | 代理人 | 吴剑锋 |
| 主权项 | 一种用于在Si片上沉积碳膜的设备，其特征在于：包括有放电管（1），在所述的放电管（1）内设有基片安装座（2），在所述基片安装座（2）内设有能加热基片（3）的加热器（4），在所述的放电管（1）上设有进气管（5），在所述放电管（1）上设有用于与抽真空装置连接的连接管（6），在所述放电管（1）外壁上套设有线圈（7），在所述的进气管（5）上设有气阀（8）。 | ||
| 地址 | 528400 广东省中山市火炬开发区创业大厦229号 | ||