发明名称 磁记录媒体制造装置
摘要 本发明的磁记录媒体制造装置,使具有磁记录层的基板表面不会由于离子束铣削而消失,且不受大气影响地制造磁记录媒体;该磁记录媒体制造装置(10),在向具有磁记录层的基板注入离子束后,将该离子束注入后的具有磁记录层的基板的表面的抗蚀膜或金属掩膜通过灰化而除去,从而制造磁记录媒体,其设有:向涂敷有抗蚀膜或金属掩膜的具有磁记录层的基板注入离子束的离子注入室(20)、通过等离子体将涂敷有抗蚀膜或金属掩膜的具有磁记录层的基板的抗蚀膜或金属掩膜灰化并除去的灰化室(30)、输送基板用的纵道、以及两个预真空室(56、56),离子注入室(20)、灰化室(30)以及两个预真空室(56、56)以真空状态而被连接,同时,该磁记录媒体制造装置(10)设有将离子束注入后的基板从离子注入室(20)输送至灰化室(30)的基板输送机(60),基板输送机(60)将基板以能够对其两面进行处理的方式加以保持。
申请公布号 CN102150208B 申请公布日期 2014.03.19
申请号 CN200980128660.5 申请日期 2009.07.21
申请人 爱发科股份有限公司 发明人 西桥勉;森田正;渡边一弘;佐藤贤治;涡卷拓也;田中勉
分类号 G11B5/84(2006.01)I;G11B5/855(2006.01)I 主分类号 G11B5/84(2006.01)I
代理机构 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 代理人 郑立
主权项 一种磁记录媒体制造装置,在向具有磁记录层的基板注入离子束之后,将该离子束注入后的具有磁记录层的基板的表面的抗蚀膜或金属掩膜通过灰化而除去,从而制造磁记录媒体,所述磁记录媒体制造装置的特征在于,设有离子注入室、灰化室、输送所述基板用的纵道、以及预真空室;所述离子注入室,从生成离子的离子源中引出所希望的离子种类并加速为所希望的能量后,将离子束注入涂敷有抗蚀膜或金属掩膜的具有磁记录层的基板;所述灰化室,设有使等离子体发生并扩散的等离子体发生装置,并利用通过所述等离子体发生装置而被扩散的等离子体,将所述涂敷有抗蚀膜或金属掩膜的具有磁记录层的基板上的、至少所述抗蚀膜或金属掩膜灰化并除去;所述预真空室设置有两个,并且,在对所述基板进行处理之前将该基板导入一个所述预真空室,在对所述基板进行了处理之后将该基板导入另一个所述预真空室;所述纵道中设有:用于输送将在所述离子注入室和所述灰化室中进行处理的所述基板的一个所述纵道,和用于输送在所述离子注入室和所述灰化室中进行了处理后的所述基板的另一个所述纵道;从一个所述纵道向一个所述预真空室导入处理前的所述基板,并且,在处理后的所述基板被导入另一个所述预真空室之后,将所述处理后的基板向另一个所述纵道导入;所述离子注入室、所述灰化室以及两个所述预真空室通过真空阀以真空状态而被连接;并且,所述磁记录媒体制造装置设有将所述离子束注入后的基板从所述离子注入室输送至所述灰化室的基板输送机,所述基板输送机将所述基板以能够对其两面进行处理的方式加以保持。
地址 日本神奈川县