| 发明名称 | 一种表面等离激元成像光刻结构 | ||
| 摘要 | 一种表面等离激元成像光刻结构，其特征在于：由超透镜结构（1）、第一光栅（2）、抗蚀剂层（5）、基底（6）和第二光栅（7）组成。第一光栅（2）和第二光栅（7）位于超透镜结构（1）的上方，抗蚀剂层（5）位于超透镜结构（1）的下方。本实用新型利用光栅从两端激发SPP，二者发生干涉，形成干涉条纹，然后利用超透镜结构放大消逝波，在抗蚀剂上形成超分辨的像，进而完成曝光，既充分利用了SPP的短波长特性，又利用了超透镜的超分辨能力，从而实现超高的光刻分辨率。同时还能实现远场成像光刻，有助于改善焦深。 | ||
| 申请公布号 | CN203490456U | 申请公布日期 | 2014.03.19 |
| 申请号 | CN201320645119.5 | 申请日期 | 2013.10.20 |
| 申请人 | 安徽师范大学 | 发明人 | 石建平;米佳佳;张青;张颖;姚敏 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 一种表面等离激元成像光刻结构，其特征在于：由超透镜结构（1）、第一光栅（2）、抗蚀剂层（5）、基底（6）和第二光栅（7）组成，第一光栅（2）和第二光栅（7）位于超透镜结构（1）的上方，抗蚀剂层（5）位于超透镜结构(1)的下方。 | ||
| 地址 | 241002 安徽省芜湖市花津南路 | ||