| 发明名称 | 阵列基板及其制作方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种阵列基板制作方法，包括：在基板上形成包括数据线、源极及漏极的图形；形成包括有源层的图形；形成包括栅绝缘层的图形，且露出所述漏极与待形成的阳极连接的区域；形成包括栅线、栅极及阳极的图形；形成包括像素定义层、有机材料层及透明阴极的图形。还公开了一种阵列基板及显示装置。本发明的方法减少了mask的次数，从而节省了制作工艺流程和制作成本。 | ||
| 申请公布号 | CN103647028A | 申请公布日期 | 2014.03.19 |
| 申请号 | CN201310706776.0 | 申请日期 | 2013.12.19 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 宋泳锡;刘圣烈;崔承镇;金熙哲 |
| 分类号 | H01L51/56(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/56(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 李迪 |
| 主权项 | 一种阵列基板制作方法，其特征在于，包括：在基板上形成包括数据线、源极及漏极的图形；形成包括有源层的图形；形成包括栅绝缘层的图形，且露出所述漏极与待形成的阳极连接的区域；形成包括栅线、栅极及阳极的图形；形成包括像素定义层、有机材料层及透明阴极的图形。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||