在蚀刻期间利用光谱使RF切换与气体切换同步

摘要

提供了用于在等离子体处理腔室中将特征蚀刻到蚀刻层中的方法。提供了光定时沉积阶段，其包括：提供沉积阶段气体流；检测所述等离子体处理腔室内沉积气体的存在；提供由所述等离子体处理腔室中的沉积阶段气体形成等离子体的RF能；以及停止所述沉积气体流入等离子体处理腔室。提供了光定时蚀刻阶段，包括：提供蚀刻气体流；检测等离子体处理腔室内蚀刻气体的存在；提供用于由等离子体处理腔室中的蚀刻气体形成等离子体的RF能；以及停止蚀刻气体流入等离子体处理腔室。

主权项

一种在等离子体处理腔室中将特征蚀刻到蚀刻层中的方法，其包括多次循环，其中每次循环都包括：光定时沉积阶段，其包括：提供沉积阶段气体流；检测所述等离子体处理腔室内的沉积气体的存在；提供用于使所述等离子体处理腔室中的所述沉积阶段气体形成等离子体的RF能；以及停止所述沉积气体流入所述等离子体处理腔室；以及光定时蚀刻阶段，其包括：提供蚀刻气体流；检测所述等离子体处理腔室内所述蚀刻气体的存在；提供用于使所述等离子体处理腔室中的所述蚀刻气体形成等离子体的RF能；以及停止所述蚀刻气体流入所述等离子体处理腔室。