电感耦合等离子体（ICP）反应器的动态离子自由基筛与离子自由基孔

摘要

本文描述的实施例提供使用具有可移动式孔的离子蚀刻腔室来蚀刻基板的设备及方法。离子蚀刻腔室具有腔室主体，腔室主体包围处理区域、基板支撑件、等离子体源、离子-自由基屏蔽件及可移动式孔部件。基板支撑件布置于处理区域中且具有基板接收表面。等离子体源布置于面对基板接收表面的腔室主体的壁上。离子-自由基屏蔽件布置于等离子体源与基板接收表面间。可移动式孔部件介于离子-自由基屏蔽件与基板接收表面间。可移动式孔部件通过升举组件而致动，升举组件包含升举环及自升举环至孔部件的升举支撑件。离子-自由基屏蔽件通过经由孔部件而布置的屏蔽件支撑件而支撑。孔大小、形状及/或中心轴位置可藉使用插入件而改变。

主权项

一种离子蚀刻腔室，包含：腔室主体，所述腔室主体包围处理区域；基板支撑件，所述基板支撑件布置于所述处理区域内且具有基板接收表面；等离子体源，所述等离子体源布置于面对所述基板接收表面的所述腔室主体的壁上；离子‑自由基屏蔽件，所述离子‑自由基屏蔽件布置于所述等离子体源与所述基板接收表面间；及可移动式孔部件，所述可移动式孔部件介于所述离子‑自由基屏蔽件与所述基板接收表面间。