发明名称 一种可抑制材料表面热发射率不均影响的热图像处理方法
摘要 本发明公开了一种可抑制材料表面热发射率不均影响的热图像处理方法,采用冷却结束时的红外热图像中各像素的红外热响应幅度减去加热开始前的红外热响应幅度,再以结果去除加热开始至结束期间任意时刻各像素的红外热响应幅度与加热开始前的红外热响应幅度的差,生成新的热红外图像。采用本发明生成的热红外图像,可以抑制材料表面本身存在的热发射率不均对热红外图像影响,排除对缺陷检测的干扰,提高对缺陷的检测准确率。
申请公布号 CN103646386A 申请公布日期 2014.03.19
申请号 CN201310648340.0 申请日期 2013.12.05
申请人 电子科技大学 发明人 程玉华;白利兵;陈凯;张杰
分类号 G06T5/50(2006.01)I 主分类号 G06T5/50(2006.01)I
代理机构 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人 温利平
主权项 1.一种可抑制材料表面热发射率不均影响的热图像处理方法,其特征在于包括以下步骤:S1:加热开始前,采集被测件在热平衡状态下的红外热图像,其中各像素点(m,n)处红外热响应幅度记为<img file="FDA0000430472060000011.GIF" wi="192" he="89" />S2:对被测件加热并冷却,在此期间任意时刻t采集一幅被测件的红外热图像,其中各像素点(m,n)处红外热响应幅度<img file="FDA0000430472060000012.GIF" wi="176" he="89" />S3:当被测件冷却至热平衡状态时,采集被测件的红外热图像,其中各像素点(m,n)处红外热响应幅度记为<img file="FDA0000430472060000013.GIF" wi="194" he="89" />S4:生成新的红外热红外图像,各像素点(m,n)的红外热响应幅度计算公式为:<![CDATA[<math><mrow><msub><mi>j</mi><mrow><mi>m</mi><mo>,</mo><mi>n</mi></mrow></msub><mo>=</mo><mfrac><mrow><msubsup><mi>j</mi><mrow><mi>m</mi><mo>,</mo><mi>n</mi></mrow><mo>*</mo></msubsup><mrow><mo>(</mo><mi>t</mi><mo>)</mo></mrow><mo>-</mo><msubsup><mi>j</mi><mrow><mi>m</mi><mo>,</mo><mi>n</mi></mrow><mo>*</mo></msubsup><mrow><mo>(</mo><mn>0</mn><mo>)</mo></mrow></mrow><mrow><msubsup><mi>j</mi><mrow><mi>m</mi><mo>,</mo><mi>n</mi></mrow><mo>*</mo></msubsup><mrow><mo>(</mo><msub><mi>t</mi><mn>1</mn></msub><mo>)</mo></mrow><mo>-</mo><msubsup><mi>j</mi><mrow><mi>m</mi><mo>,</mo><mi>n</mi></mrow><mo>*</mo></msubsup><mrow><mo>(</mo><mn>0</mn><mo>)</mo></mrow></mrow></mfrac><mo>.</mo></mrow></math>]]></maths>
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