发明名称 |
GaN基LED外延片 |
摘要 |
本实用新型提供一种GaN基LED外延片,包括:衬底和外延层,所述外延层位于所述衬底之上,包括依次堆叠的以下结构层:N型GaN层;位于所述N型GaN层一侧的第一InGaN/GaN多量子阱层;位于所述第一InGaN/GaN多量子阱层一侧的第二InGaN/GaN多量子阱层;位于所述第二InGaN/GaN多量子阱层一侧的P型GaN层,其中,所述第一InGaN/GaN多量子阱层中的阱层厚度为D1,第二InGaN/GaN多量子阱层中的阱层厚度为D2,D1<D2。本实用新型的GaN基LED外延片具有蓝移值小、发光稳定性高等优点。 |
申请公布号 |
CN203491288U |
申请公布日期 |
2014.03.19 |
申请号 |
CN201320598427.7 |
申请日期 |
2013.09.27 |
申请人 |
惠州比亚迪实业有限公司 |
发明人 |
肖怀曙;谢春林 |
分类号 |
H01L33/06(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/06(2010.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种GaN基LED外延片,其特征在于,包括:衬底;和外延层,所述外延层位于所述衬底之上,包括依次堆叠的以下结构层:N型GaN层;位于所述N型GaN层一侧的第一InGaN/GaN多量子阱层;位于所述第一InGaN/GaN多量子阱层一侧的第二InGaN/GaN多量子阱层;位于所述第二InGaN/GaN多量子阱层一侧的P型GaN层,其中,所述第一InGaN/GaN多量子阱层中的阱层厚度为D1,第二InGaN/GaN多量子阱层中的阱层厚度为D2,D1<D2。 |
地址 |
516083 广东省惠州市大亚湾响水河 |