| 摘要 |
Un procedimiento de deposición de un revestimiento sobre un sustrato (2) por medio de una técnica dedeposición química de vapor asistida por llama, en el que el sustrato se expone a una llama producida por unquemador (1), al tiempo que se añade un flujo de elementos de precursor a dicha llama, y en el que el sustrato sesomete a un movimiento relativo con respecto a dicho quemador, en el que el sustrato comprende su superficie oconsiste en un material termo sensible, en el que la deposición del revestimiento tiene lugar en dos o más etapas dedeposición sobre un sustrato opcionalmente pre-calentado, consistiendo cada etapa de deposición en un número depases posteriores sobre la misma parte del sustrato, consistiendo cada pase en un movimiento del sustrato conrespecto a la llama a una velocidad de 30 m/min o más, no aplicándose enfriamiento externo durante dichomovimiento, y en el que después de cada etapa de deposición, se somete el sustrato a una etapa de enfriamiento,en la que el sustrato se enfría hasta su temperatura inicial. |
