发明名称 |
Películas finas de nanohilos metálicos |
摘要 |
Un procedimiento de preparación de una película de nanohilos conductora en una superficie de un sustrato,comprendiendo dicho procedimiento: (a) obtener una solución de precursor acuosa que comprende al menos un precursor metálico, al menos untensioactivo y al menos un agente reductor de metales en la que la concentración del al menos un tensioactivoen dicha solución es al menos el 5 % (p/p); (b) formar una película fina de la solución de precursor en al menos una porción de una superficie de unsustrato; y (c) permitir que dichos nanohilos se formen en dicha película fina, obteniendo de este modo una película denanohilos conductora en al menos una porción de dicha superficie. |
申请公布号 |
ES2448765(T3) |
申请公布日期 |
2014.03.17 |
申请号 |
ES20090787552T |
申请日期 |
2009.09.01 |
申请人 |
RAMOT AT TEL-AVIV UNIVERSITY LTD. |
发明人 |
MARKOVICH, GIL;AZULAI, DANIEL;KRICHEVSKI, OLGA |
分类号 |
C23C18/14;C23C18/16;C23C18/34;C23C18/40;C23C18/44;C23C18/48;H05K3/10;H05K3/18 |
主分类号 |
C23C18/14 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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