| 发明名称 | 遮光膜 | ||
| 摘要 | 发明的课题在于廉价地制造耐热性、尺寸稳定性优异、且具有高遮光性、低光泽性、而且其偏差少的遮光膜。本发明提供一种遮光膜，其特征在于，其为包含聚酰胺酰亚胺树脂、平均粒径0.01~1μm的黑色填料、平均粒径0.1~10μm的无机颗粒的遮光膜，遮光膜中的聚酰胺酰亚胺树脂的含有率为55~91重量%、黑色填料的含有率为1~10重量%、无机颗粒的含有率为8~35重量%。 | ||
| 申请公布号 | CN102906603B | 申请公布日期 | 2014.03.12 |
| 申请号 | CN201180025082.X | 申请日期 | 2011.05.10 |
| 申请人 | 东洋纺株式会社 | 发明人 | 多田谦太;久保绘美;山本佑 |
| 分类号 | G02B5/00(2006.01)I;C08K3/04(2006.01)I;C08K3/36(2006.01)I;C08L79/08(2006.01)I;G03B9/00(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种遮光膜，包含聚酰胺酰亚胺树脂、黑色填料和无机颗粒，其特征在于，其分别按照以下的(i)～(iii)所示的含有率包含聚酰胺酰亚胺树脂、平均粒径0.01～1μm的黑色填料、和平均粒径0.1～10μm的无机颗粒，且该遮光膜为单层结构；(i)聚酰胺酰亚胺树脂的含有率为55～91重量%；(ii)平均粒径0.01～1μm的黑色填料的含有率为1～10重量%；(iii)平均粒径0.1～10μm的无机颗粒的含有率为8～35重量%，所述无机颗粒为二氧化硅。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||